MITSUBISHI MODULES

备件包括腔体、灯丝、电弧缝、支架和许多其他部件。这些零备件由石墨、钼、钨和合金制成。它们经久耐用，使用寿命长，因此可以节省资金和维修时间。每个光束路径上都有上百或更多的攀时组件在工作。它们确保有效生成离子，并沿着光束路径不含杂质精确引导到晶片。 对于半导体行业的客户，攀时的备件渐渐已经不仅仅是备品，而是成为了首选。攀时在设备制造商原始备件的基础上优化了几何形状和材料组成。给您带来的好处：简化组件的安装和拆卸、延长使用寿命、降低清洁成本、减少维护工作、减少停机时间。

我们的真空室VC M1200²由我们的新型模块化室系统组成。全新的真空系统能够由单个或多个长度为500 mm的相同铝合金整体加工模块组合而成。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 1000 mm (模块化，步长为500 mm) 宽度: 1200 mm 高度: 1200 mm 卷 约 1440 升 接口 2 x KF 16 6 x KF 40 1 x ISO K 63 1 x ISO K 160 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC M1000²由我们的新型模块化室系统组成。全新的真空系统能够由单个或多个长度为500 mm的相同铝合金整体加工模块组合而成。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 1000 mm (模块化，步长为500 mm) 宽度: 1000 mm 高度: 1000 mm 卷 约 1000 升 接口 2 x KF 16 6 x KF 40 1 x ISO K 63 1 x ISO K 160 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P240X240由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。在型材的侧板中已有凹槽，可轻松将产品支架推入其中。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 420 mm, 600 mm) 宽度: 240 mm 高度: 240 mm 前面板（可选）: 8 U（1 U = 44.45毫米） 卷 从 约 24 到 35 升 接口 2 x KF 16 3 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器