用于材料层的电弧阴极和溅射靶

铝被用于显示器中的TFT-LCD薄膜晶体管PVD金属喷镀。铝溅射靶具有极高的纯度极，从而确保了材料的最佳电导率。靶材均匀的微观结构以及优异的表面质量保证了在溅射过程中少量的颗粒形成以及均匀的侵蚀。

钨层是TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管元件。在需要大屏幕格式，特别是高清画质和优化对比度时，都可以使用它们。不过，在微电子行业中，钨也被用作扩散屏障和导电连接器。攀时拥有世界上最大的难熔金属热轧机，能够生产出地球上最大的钨溅射靶。大幅面对您的好处：涂层工艺更稳定，沉积层质量更高。攀时采用特别的成形工艺，确保其钨溅射靶材的密度几乎达到100%。出色的溅射速度带来特别高的导电性并节省大量时间，对您的工艺流程非常有利。

钼溅射靶用于生产TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管元件。攀时的靶材具有最大密度、高纯度，并呈现均匀的微观结构。因此可以保证更高的溅射速度、最大限度减少过程中的颗粒形成并获得均质层。可提供的钼合金：MoTa、MoNb、MoNa、MoW。您可以选择我们的单片式和多片式平面靶。平面靶可用于所有常用系统以及满足特定的客户需求。也可提供旋转靶。

攀时的钼和钨坩埚是熔化和凝固单晶的理想容器。成型的坩埚具有特别薄的壁面，并具有优异的抗蠕变性能。坩埚的出色纯度可防止单晶受到任何污染。即使是最具侵蚀性的蓝宝石熔体也不会造成任何伤害。攀时生产大量的成型钼和钨坩埚，并以所有通用尺寸供货。它们被全球所有主要制造商和众多终端客户成功使用。