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奥地利

钼溅射靶

用于PVD涂层的钼薄膜材料

相關細節

钼溅射靶用于生产TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管元件。攀时的靶材具有最大密度、高纯度,并呈现均匀的微观结构。因此可以保证更高的溅射速度、最大限度减少过程中的颗粒形成并获得均质层。可提供的钼合金:MoTa、MoNb、MoNa、MoW。您可以选择我们的单片式和多片式平面靶。平面靶可用于所有常用系统以及满足特定的客户需求。也可提供旋转靶。

机械—用于表面包涂
  • PVD涂层

补充资料

视频

Physical Vapour Deposition Sputtering Process (PVD)

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