钨溅射靶 - 用于PVD涂层的钨薄膜材料

我们生产的材料可用于耐磨涂层、粘合层、装饰性或DLC涂层。攀时的产品100％为内部生产，广泛使用粉末冶金制造技术，这使攀时能够提供专为高级硬质涂层量身定制的靶材成分，使这些涂层具有最佳的机械和摩擦学性能。其他可能涉及的主题包括：提高热稳定性和化学稳定性、增加自润滑、自硬化和自愈合等功能特性。为了调整涂层特性以适应专门应用，攀时给出了其采用可影响涂层性能的元素制造靶材和阴极合金方面的科学专业知识，具体如下：粒度和形态、硬度适应性、耐高温氧化性、摩擦系数、热稳定性、导热性、导电性、抗菌性、颜色效果。我们提供以下溅射靶和电弧阴极： 钛-铝 铝-铬 铬 钛-硅 钛 锆 碳化钨 钛-二硼化钛

钼溅射靶用于生产TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管元件。攀时的靶材具有最大密度、高纯度，并呈现均匀的微观结构。因此可以保证更高的溅射速度、最大限度减少过程中的颗粒形成并获得均质层。可提供的钼合金：MoTa、MoNb、MoNa、MoW。您可以选择我们的单片式和多片式平面靶。平面靶可用于所有常用系统以及满足特定的客户需求。也可提供旋转靶。

攀时的钼和钨坩埚是熔化和凝固单晶的理想容器。成型的坩埚具有特别薄的壁面，并具有优异的抗蠕变性能。坩埚的出色纯度可防止单晶受到任何污染。即使是最具侵蚀性的蓝宝石熔体也不会造成任何伤害。攀时生产大量的成型钼和钨坩埚，并以所有通用尺寸供货。它们被全球所有主要制造商和众多终端客户成功使用。

由钨、钼和钽制成的蒸发舟，有多种不同宽度、长度、材料厚度和体积版本，可直接在攀时网上商店购买：www.plansee.com/shop